荷兰 ASML 的研究人员改进了极紫外光刻（EUV）设备所使用的光源功率，有望在这个十年结束前将芯片产量提高 50%。研究人员找到了方法将极紫外光源功率从目前的 600 瓦提高至 1000 瓦。更大的功率意味着每小时可以生产更多芯片，有助于降低单个芯片的成本。芯片的制造方法类似照片打印，利用极紫外光照射涂有光刻胶的硅晶圆，使用更大的极紫外光源，芯片工厂所需的曝光时间更短。ASML 极紫外光刻机执行副总裁 Teun van Gogh 表示，到 2030 年极紫外光刻机每台机器每小时能处理约 330 片硅晶圆，而目前是 220 片。